检测范围
用于材料的微观表面观察与成分分析，包括纳米结构材料的观察和表征。此外，还要求对一些容易受电子束损伤的样品和导电性非常差的样品可以在低加速电压和/或低真空模式下进行直接观察。
仪器参数
电子光学系统：分辨率：≥1.0nm(加速电压15kV), ≥2.0nm(加速电压1kV), ≥1.3nm(照射电压1kV，使用减速装置或GB方式时) 放大倍数：最小≥20倍；最大≤80万倍（底片模式） 最小≥60倍；最大≤200万倍（显示器模式）电子枪：冷场发射电子枪电子束流：≥1pA, 且连续可变检测器：二次电子检测器：配有高位、低位以及顶部二次电子探测器，每个探测器都可以称二次电子像和背散射电子像，并可以任意比例混合。顶部探头可以接受高位背散射电子，并可成电位衬度像。
仪器特色&服务特色
中钢天源、铜陵天源、铜冠国轩等企业。
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