离子刻蚀系统配套升级-测试100仪器共享平台

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离子刻蚀系统配套升级
所在单位：	北京理工大学
品牌/型号：	SPTS，OMEGA LPX DSI
所在地区：	北京市
仪器说明：	我们目前尚未与北京理工大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：票正规发票合委托合同保交易担保退不满意退款优优选服务商

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该机器可以将硅刻蚀的工艺最佳化，更可大幅度地改善制程能力的稳定性和可靠性。拥有全新的高密度、高均匀性的等离子源的设计，可提高30%的刻蚀速度及高于35%的掩膜选择比。

100mm硅片,刻蚀速度：>2微米/分钟,光刻胶选择比: >20:1,侧壁角度：90+/-0.5deg，侧壁粗糙度：

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