高真空磁控与离子束溅射镀膜系统(High vacuum magnetron and ion beam sputtering coating system)
电子科技大学
中科院沈阳科学仪器研制中心有限公司,FJL560L型|| ||极限真空6.6X10^-5Pa 离子束室:5X10-5Pa
四川省
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检测范围

磁控室可以进行直流直靶位溅射、射频直靶位溅射,直流斜靶位溅射和直流三靶位共溅射镀膜

仪器参数

离子束室安装Φ3mm kaufman型样品清洗和辅助沉积离子枪和Φ3mm kaufman型溅射离子枪各一台;四工位转靶一支;样品转盘上有两个样品台,一个水冷结构,一个加热结构。
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