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分步投影光刻机(Step by step projection lithography)
电子科技大学
Ｎｉｋｏｎ，NSR2005i9C|| ||分辨率：0.45um 套刻精度：≤110nm 最大曝光面积：20x
四川省
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检测范围

2、3、4、6英寸硅片亚微米光刻

仪器参数

分辨率：0.45um 套刻精度：≤110nm 最大曝光面积：20x
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