| 等离子增强型化学气相沉积（PECVD）系统(Plasma enhanced chemical vapor deposition) | |||
|---|---|---|---|
| 电子科技大学 | |||
| TRION TECHNOLGY,INC，MINLOCK-ORION III|| ||6英寸硅片处理系统，非晶硅生长速率：100A-min;非均匀性小于3% | |||
| 四川省 | |||
| 我们目前尚未与电子科技大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障： | |||
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