等离子刻蚀去胶机(Plasma etching stripping machine)
电子科技大学
ALLWIN21 Corp,A1000R|| ||微波功率1000W;去胶速率:月20000A-min;工艺样片尺寸:4-6吋;自动传片
四川省
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仪器参数

功率:10000W,去胶速率:10nm
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