ABM光刻机/曝光机-测试100仪器共享平台

ABM光刻机/曝光机
所在单位：	中国科学院力学研究所
品牌/型号：	ABM公司，ABM/6/350/NUV/DCCD/BSV/M
所在地区：	北京市
仪器说明：	我们目前尚未与中国科学院力学研究所提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：票正规发票合委托合同保交易担保退不满意退款优优选服务商

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通过光学系统以投影方法将掩模版上的图形转移到涂有光刻胶的晶圆上，晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。

接触式曝光方式线条宽度为 0.6微米，间接式曝光方式线条宽度为 1.0微米，厚胶光刻特征尺寸为100-300微米，正面对准精度≤ ±1微米，背面对准精度≤ ±2微米。

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