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超高真空磁控离子束溅射系统(Ultra high vacuum magnetron ion beam sputtering system)
合肥工业大学
中国科学院沈阳科学仪器研制中心，FJL560B1,20010030
安徽省
我们目前尚未与合肥工业大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：

检测范围

仪器主要应用领域和提供服务范围： 系统配备多个磁控溅射源，可在最大6英寸基片上沉积金属、半导体、介质材料. 可用于溅射多层薄膜和共溅合金薄膜。

仪器参数

溅射腔体极限真空度：优于5E-,6pa；装样能力最大6英寸的平板基片样品；加热器最高温度： 600度
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