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等离子源磁过滤弧设备(Filtered arc deposition)
大连理工大学
沈阳市北宇真空设备厂，自制
辽宁省
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检测范围

功能：等离子体源产生等离子体，增强沉积薄膜；真空蒸发弧源采用平面磁滤，电场过滤，并与等离子体源共同完成等离子体强化-镀膜一体化工艺技术和镀膜技术。 该设备可对各种工模具进行表面改性,可实现各种弹簧钢、工具钢和硬质合金的沉积工艺。沉积硬质薄膜如TiN膜、DLC膜、Cr

仪器参数

主要参数：平面磁弧：80V，260A，;二次离化电源：70V，60A;等离子体源：15V，30A;计算机自控、手动控制。
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