溅射-刻蚀一体机
北京理工大学
北京金胜微纳科技有限公司,JR-2B
北京市
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检测范围

/主要功能及特色(应用范围): 溅射金属膜,等离子刻蚀;本设备配有下游恒压控制系统,提高工艺稳定性。自动系统采用工控机控制、液晶显示触摸屏操作,实现真空系统级工艺过程自动化。

仪器参数

*主要规格及技术指标:        极限真空:6.6×10-5Pa 环境湿度≦55%
溅射均匀性≦±4% 刻蚀均匀性≦±5%
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