检测范围
主要功能：用于沉积单原子层超薄膜的气相沉积设备。通过精确控制媒质的流量以及使用清除媒质，保证了一次只沉积一层指定要求的单原子层超薄膜。
仪器参数
ALD沉积室：不锈钢壳体，气相煤质输送系统，原位光谱在线分析系统，精确温度控制系统，四寸基片加热系统（最高可到500度、温度均匀性+/-3％@500C）。 真空抽气系统：符合ALD沉积要求。 媒质输送系统：（1）气体：加热气体，包括一个MFC质量流率计精确控制、三个高速ALD阀和1个关断阀： （2）：液体或固体：包括一个MFC、一个高速ALD阀和1个关断阀。 （3）：一个清除气体，包括一个和MFC和1个关断阀。 （4）：6个气体分送阀，所有的媒质加热可到200度。 ALD控制系统：自动控制系统及人机界面。
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