超高真空磁控与离子束系统
山东大学
中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司,FJL520FJL520
山东省
我们目前尚未与山东大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器,建议您联系相关单位,以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求,委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试,我们将为您提供以下保障:

检测范围

主要应用于磁控溅射室及离子束溅射室的方法制备薄膜。 适用范围:靶材可以用金属或陶瓷材料,几篇可用玻璃灯无机材料。实现基片上的镀膜。

仪器参数

系统极限真空: 磁控溅射室:达6.6*10^-5Pa 离子束溅射室:达6.6*10^-5Pa 系统抽速: 磁控溅射室:达6.6*10^-4Pa 离子束溅射室:达6.6*10^-4Pa 系统漏率: 磁控溅射室:≤1Pa 离子束溅射室:≤1Pa 样品加热温度:室温~500℃
如果找不到合适的仪器,您可以提交您的需求,由我们帮您匹配最优的服务商 提交需求