检测范围
研究和开发纳米级单层及多层功能膜，
如硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、碳膜、铁磁膜和磁性薄膜等新型
薄膜材料 。 主要由溅射室、磁控溅射靶、对向磁控靶、射频电源、直流电源、样品加热转
台、真空获得及测量系统、电控系统、气路系统、微机控制膜层系统等组成。
仪器参数
极限真空：优于 8×10-6 Pa
真空室尺寸：Ф 560×450（mm）为圆筒形立式全不锈钢结构
样品加热温度：可加热到 600 ℃
基片尺寸、数量： 最大Φ30mm 、五块
靶的尺寸、数量：靶材直径Ф60mm、四组八个对向永磁靶、一个平面磁控靶
MFC质量流量计控制器进气
计算机控制样品和挡板转动，手动换样
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