ABM光刻曝光机
北京理工大学
美国ABM股份有限公司,ABM/6/350/NUV/DCCD/BSV/M
北京市
我们目前尚未与北京理工大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器,建议您联系相关单位,以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求,委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试,我们将为您提供以下保障:

检测范围

90-600倍连续放大CCD, 2寸区域均匀性误差小于1%,双面对准; 近紫外光源。光源均匀性

仪器参数

6寸爆光源,可支持2,3,6寸碎片曝光,曝光精度1um,
手动调焦
如果找不到合适的仪器,您可以提交您的需求,由我们帮您匹配最优的服务商 提交需求