脉冲激光沉积-磁控溅射系统的腔体(无)
同济大学
沈阳慧宇真空技术有限公司,**
上海市
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检测范围

薄膜样品制备

仪器参数

激光沉积系统极限真空度:6.6×10-7 Pa
激光沉积系统样品托最高稳定温度:800 ℃
磁控溅射系统极限真空度:6.6×10-6 Pa
磁控溅射系统加热炉最高稳定温度:750 ℃
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