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卧式LPCVD系统
重庆大学
北京七星华创电子股份有限公司，L4110Ⅱ-3/ZM2～4英寸
重庆市
我们目前尚未与重庆大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：

检测范围

淀积多晶硅、二氧化硅、氧化硅等薄膜材料

仪器参数

淀积薄膜厚度600A-20000A,极限真空优于1Pa,淀积薄膜片内均匀性：Si3N4±3%；多晶硅±4%，SiO2±3%

仪器特色&服务特色

服务于973.863等项目
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