激光直写仪
海南大学
德国海德堡,uPG501
海南省
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检测范围

适用于微图形模板的设计和制作(比如可自行设计纳米小球图案),光罩的试制和直接进行描写的研究开发。精度高,可控性好。其功能涵盖光刻机的功能。

仪器参数

最小结构尺寸:1μm
地址网格[nm]: 100
刻写速度:50 mm2/min
边缘粗糙度 [3σ, nm]:120
线宽均匀度 [3σ, nm]: 200
对准精度[3σ, nm]:500
最大直写面积[mm x mm]:100 x 100
支持多种客户图形格式(DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL)
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