我的订单 会员中心 常见问题 意见反馈 服务商入口

提交需求
首页 > 所有仪器> 电子工艺实验设备 > 光刻胶涂布机
联系平台客服
分享
光刻胶涂布机
华南理工大学
suss Microtech，* *
广东省
我们目前尚未与华南理工大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：

仪器参数

★1．可加工基板尺寸：200 mm×200 mm，100 mm×100 mm。玻璃基板厚度0.3-1.1 mm；
★2．工作时旋涂腔室必须是封闭的，与外界隔绝。避免有毒气体挥发，对人员造成伤害；
3．具备程序可控的废气排出系统，并能保证排放系统运行时不会影响涂胶的均匀性；
4．设备设计应该方便取放玻璃基板；
★5．涂胶转速：0-3000 rpm或更高；
★6．转速精度：
更多仪器 查看更多>>
如果找不到合适的仪器，您可以提交您的需求，由我们帮您匹配最优的服务商 提交需求