亲,请登录
消息
我的订单
会员中心
常见问题
意见反馈
服务商入口
搜索
提交需求
全部仪器分类
结构组成
色谱
质谱
波谱
光谱
X射线仪器
成分含量
元素分析
水分测定
水质分析仪
组织形貌
光学显微镜
电子显微镜
表面测量仪器
物理性能
电化学仪器
粒度/颗粒/粉末分析仪器
流变/粘度类
表界面物性测试
试验机
物理性能测试
射线检测
味觉分析
热学性能
燃烧测定仪
热分析仪器
生命科学
分子生物学仪器
细胞生物学仪器
生化分离分析
生物显微镜
材料加工
辐射测量仪器
电子工艺实验设备
激光器
首页
检测项目列表
邀请好友
预存送京东卡
常见问题
会员中心
客服电话:021-38228756
首页
>
所有仪器
>
电子工艺实验设备
>
无掩模光刻机
联系平台客服
+关注仪器
分享
微信
新浪微博
QQ空间
QQ好友
取消
无掩模光刻机(Maskless Lithography)
所在单位:
中国科学技术大学
品牌/型号:
合肥芯硕半导体有限公司,ATD 1500
所在地区:
安徽省
仪器说明:
我们目前尚未与
中国科学技术大学
提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器,建议您联系相关单位,以确定是否可以对外开放。您也可以通过
点击此处
提交需求,委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试,我们将为您提供以下保障:
票
正规发票
合
委托合同
保
交易担保
退
不满意退款
优
优选服务商
所有仪器
行业专用仪器
电子工艺实验设备
测量/计量仪器
光学计量
分析仪器
显微镜及图象分析
仪器介绍
检测范围
基于先进的第二代光刻直写技术,通过空间光调制器扫描技术实现直写光刻。在应用中省去了繁琐 的掩膜加工步骤,具有效率高、技术先进、应用灵活等特点
仪器参数
工作波长:405 nm,分辨率:0.9 μm,对准精度:±0.6 μm,扫描速度:30-420 mm2/min,样品尺寸:最大 6 英寸硅片
猜您需要
查看更多>>
脉冲激光分子束外延系统
电子束曝光系统
太阳能模拟器
光浸台
微波等离子体去胶机
溅射台
紫外线光刻胶固胶机
膜辅助电子封装精密模塑封机
如果找不到合适的仪器,您可以提交您的需求,由我们帮您匹配最优的服务商
提交需求