首页 > 所有仪器> > 超精密全息元件记录系统

超精密全息元件记录系统
所在单位：	北京理工大学
品牌/型号：	无，MA6
所在地区：	北京市
仪器说明：	我们目前尚未与北京理工大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：票正规发票合委托合同保交易担保退不满意退款优优选服务商

所有仪器

主要用途: 该设备主要用于制作亚微米图形，如光电子器件、微电子器件、微机电系统、超导电子学器件、次电子学器件等。功能特色: 采用紫外光源，可以制作亚微米级图形，可用于制作各种微器件和低维人工结构。

技术指标: 品牌/型号：德国Suss Micro Tec Lithography GmbH，MA6
具体指标：晶片尺寸：2-6英寸；对准模式：正面和背面两种对准方式；接触方式：真空、低真空接触、硬接触、软接触和接近式接触；最小线宽：0.5μm；对准精度：±0.5μm。

如果找不到合适的仪器，您可以提交您的需求，由我们帮您匹配最优的服务商提交需求