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磁控溅射薄膜沉积设备(无)
所在单位：	上海大学
品牌/型号：	沈阳科学仪器研制中心，JGP-450
所在地区：	上海市
仪器说明：	我们目前尚未与上海大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：票正规发票合委托合同保交易担保退不满意退款优优选服务商

所有仪器

主要采用直流或射频溅射的方法用于单层或多层薄膜制备，反溅清洗及退火处理。

系统极限真空：进样室：6.6E-4Pa，主溅射室：9E-6Pa；样品加热温度：室温-500摄氏度，退火温度：室温-800摄氏度。DC直流电源：N=500W；RF射频电源：N=500W，F=13.56MHz；偏压电源：-200V；样品尺寸：最大直径为30mm

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