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电感耦合等离子刻蚀机
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电感耦合等离子刻蚀机(ICP)
所在单位:
西北工业大学
品牌/型号:
英国STS公司,ICP ASE
所在地区:
陕西省
仪器说明:
我们目前尚未与
西北工业大学
提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器,建议您联系相关单位,以确定是否可以对外开放。您也可以通过
点击此处
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仪器介绍
检测范围
主要用于硅材料的深槽刻蚀,同时又兼顾MEMS表面工艺中的浅硅刻蚀。
仪器参数
0 微米深硅刻蚀 约2.5微米独立汽坑宽 大于 1 微米光刻胶掩膜厚度或大约 0.5 微米 SiO2 掩膜掩膜圆形的硅暴露面积小于 10% 刻蚀速度 >2 微米/分钟 光刻胶的选择比: >50 : 1 SiO2 的选择比 >100 : 1边壁角度: 90 度
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